研究について
大学院時代の研究分野
半導体製造装置内のプラズマのシミュレーション：
プラズマを用いた材料処理技術（エッチング、スパッタリング、プラズマＣＶＤ)は，半導体の製造/加工を始めとする広い工業分野で利用されている。しかしプラズマ反応機内で起こっている複雑な物理/化学現象には未解明なものが多く，手探りの状態が続いている。 当研究分野では以上のプラズマプロセシング技術を飛躍的に進歩させるため、原子・分子・ラジカルの集団振る舞いを解析している。 ボルツマン方程式、マクスウエル方程式を練成して解くことによりこれらの現象を探求する。
ヴァーチャルプラズマ反応器の開発：
半導体製造に必要なプラズマ反応器の最適設計を計算機シミュレーションのみにより可能にすることを目的とする。 すなわち、プラズマ反応器内で起こっている複雑な物理・化学現象を計算機でシミュレートすることにより，仮想的なプラズマプロセシング装置を開発し，設計に役立てる。
博士論文内容要旨 審査結果要旨
プラズマについて軽く解説しています。
自分の研究成果などについて解説しています。