×

[PR]この広告は3ヶ月以上更新がないため表示されています。
ホームページを更新後24時間以内に表示されなくなります。

   研究成果(画像)の公開
プラズマプロセスの解説
 プラズマを用いた半導体製造法について解説しています.

プラズマのシミュレーション法
  プラズマの主なシミュレーション手法について解説しています.

プラズマの種類
  プラズマを用いた半導体プロセスに用いられるプラズマの種類を解説します.

容量結合プラズマの1次元シミュレーション
  最も基本的ともいえる容量結合プラズマのシミュレーション(動画)です.

誘導結合プラズマの解析
  プロセスで広く用いられている誘導結合プラズマ(ICP).コイルによって誘起された
  電磁界が電子を加速しプラズマを生成します.低圧力で高密度になるのが特徴ですが
  電子温度が高くなって基板にダメージを与えてしまうという欠点もあります.


誘導結合プラズマ装置内の流れ解析
  プラズマ装置内は常にガスを流しているために流れが製造プロセスに与える影響もあります.
  その影響も解析しています.


多極磁場のプラズマへの影響
   現在の半導体プロセスに用いられるプラズマのトレンドは低圧力、高密度.
   それを実現するために注目されているのが多極磁場を用いたプラズマ反応器です.

 
論文の概要です。
博士論文内容要旨 審査結果要旨